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传统和先进封装的半导体封装生产线工艺流程存在明显区别,以下为你详细介绍:
传统封装概念从最初的三极管直插时期后开始产生,其过程主要如下 :
切割晶粒:将晶圆切割为晶粒(Die)。
晶粒贴合:使晶粒贴合到相应的基板架的小岛(Leadframe Pad)上。
导线连接:利用导线将晶片的接合焊盘与基板的引脚相连(Wire Bond),实现连接。
外壳保护:用外壳加以保护(Mold,或 Encapsulation),典型封装方式有 DIP、SOP、TSOP、QFP 等。
先进封装主要包括倒装类(Flip Chip,Bumping),晶圆级封装(WLCSP,FOWLP,PLP),2.5D 封装(Interposer)和 3D 封装(TSV)等。以倒装芯片(Flip Chip)和晶圆级封装为例,其工艺流程如下 :
倒装芯片(Flip Chip)
UBM 触垫制造:当芯片制作工序完成后,制造 UBM(Under bump metallization)触垫,用于实现芯片和电路的连接。
焊料凸点淀积:将焊料凸点(Bumping)淀积于触点之上,焊锡球(Solder ball)是最常见的 Bumping 材料,也可根据不同需求选择金、银、铜、钴等,对于高密度的互联及细间距的应用,铜柱是一种新型材料。
芯片倒装互联:将芯片有源区面对着基板,通过芯片上呈阵列排列的焊料凸点实现芯片与衬底的互联,硅片直接以倒扣方式安装到从硅片向四周引出 I/O。
晶圆级封装:产品生产以圆片形式批量生产,可以利用现有的晶圆制备设备,封装设计可以与芯片设计一次进行,缩短设计和生产周期,降低成本。
连接方式:传统封装采用导线键合(Wire Bond)方式实现晶粒与基板引脚的连接;而先进封装的倒装芯片(Flip Chip)则是通过芯片上的焊料凸点实现芯片与衬底的互联,互联长度大大缩短 。
生产形式:传统封装是将晶圆切割成单个晶粒后再进行后续封装步骤;晶圆级封装这类先进封装技术则是以圆片形式批量生产,可与芯片设计同步进行,提高了设计和生产效率 。
技术复杂度:先进封装技术更为复杂和多样化,除了倒装芯片和晶圆级封装,还包括 2.5D 封装、3D 封装等,这些技术旨在实现更高密度的集成和更好的性能;传统封装技术相对较为基础和常规 。
芯片封装清洗剂选择:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
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